产品应用： PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应 在基片上沉积出所希望的薄膜。 产品组成： PECVD系统配置： 1.1200度开启式双温区真空管式炉 2.等离子射频电源 3.多路质量流量控制系统 4.真空系统（可选配中真空或高真空）  产品特点： 电源范围广；温度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，性价比高，可实现快速降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜 陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。 细节展示： 产品参数： 系统名称 1200℃小型PECVD系统 系统型号 PECVD-12IH-4Z/G zui高温度 1200℃ 加热区长度 420mm 恒温区长度 90mm 温区 单温区 石英管管径 Φ50mm 额定功率 2Kw 额定电压 220V 滑动方式及距离 手动滑动200mm 温度控制 50段程序控温； 控制精度 ±1℃ 炉管zui高工作温度 ＜1200℃ 气路法兰 本实用新型在密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然you效，该密封法兰的安装只需在第yi次使用设备的时候安装 气体控制方式 质量流量计 气路数量 4路（可根据具体需要选配气路数量） 流量范围 0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定 精度 ±1%F.S 响应时间 ≤4sec 工作温度 5-45℃ 工作压力 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力） 系统连接方式 采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪 规格 中真空 系统真空范围 10Pa-100Pa 真空泵 双极机械泵理论极xian真空度1x10-1Pa，抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器，额定电压220V，功率0.55Kw 信号频率 13.56MHz±005% 功率输出范围 0W-100W zui大反射功率 10W 射频输出接口 50Ω，N-type,temale 功率稳定度 ±0.1% 谐波分量 ≤-50dbc 供电电压 单相交流（187V-253V)频率50/60HZ 整机功率 ≥70% 屏幕显示 正方向功率，匹配器电容位置，偏置电压值 整机尺寸 483*500*88MM 炉体外形尺寸 340×580×555mm 系统外形尺寸 530×2310×750mm 系统总重量 270Kg